南大光电

📈 300346:SZ🌍 中国

国内少数同时布局 ArF 光刻胶、ALD/CVD 前驱体和电子特气的综合性半导体材料企业。

⚔️ 核心护城河

ArF 光刻胶通过部分客户验证，是国内彤程新材之外最主要的高端光刻胶竞争者。同时公司在前驱体和电子特气领域也具备重要国产替代能力。

公司概况

南大光电成立于 2000 年，总部位于江苏南京，2012 年在深交所上市。公司起源于南京大学的光电子材料研究项目，是国内半导体材料领域布局最全面的企业之一。

南大光电的业务覆盖了半导体制造三大关键材料——光刻胶、前驱体（用于 ALD/CVD 薄膜沉积的源材料）和电子特气。在光刻胶领域，南大光电是国内少数具备 ArF 光刻胶研发能力的企业之一。

公司的 ArF 光刻胶已通过部分国内晶圆厂的验证，正在推进批量供货。技术水平紧随彤程新材，列国内第二梯队。

用于先进制程中原子层沉积工艺的关键材料。南大光电是国内前驱体领域的领先企业，部分产品已进入台积电等国际大厂的供应链。

高纯度磷烷、砷烷等特种气体，用于离子注入和外延生长工艺。

南大光电在光刻胶领域不如彤程新材专精，但公司在前驱体和电子特气等材料领域的布局使其成为国内半导体材料国产替代的综合性平台型企业。